超声波膜厚仪 Quintsonic
超声波膜厚仪 Quintsonic 测量金属（铁、非铁）和非金属（塑料、玻璃等）基材上的膜厚度。另外，测量薄膜本身的厚度
特点：
也可以测量基材（金属、非金属）本身的厚度。
测量方法：超声波回波反射法
测量范围：10 至 500 μm（薄膜）
配备记忆功能和统计计算功能
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模型 |
昆特索尼克 |
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测量方法 |
超声波回波反射法 |
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测量范围 |
10-500 μm（薄膜） |
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壁厚测量 |
最大约 8 毫米（取决于对象） |
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最小测量区域 |
φ11（平面上） |
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解析度 |
1微米 |
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测量精度 |
100μm以下：±（3%+2μm），100μm以上：±（2%+2μm） |
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附加功能 |
具有记忆功能和统计计算功能 |
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电源供应 |
可充电电池或交流适配器 |
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尺寸 重量 |
82 (W) x 150 (H) x 35 (D) 毫米，约 320 克 |
电磁式膜厚仪LE-373/LE-200J
测量磁性金属镀层（电解镀镍除外）、涂装等非磁性膜厚的膜厚计。
LE-373是一款测量非磁性薄膜厚度的薄膜厚度计，例如磁性金属上的电镀（不包括电解镀镍）和涂漆。可将数据传输至打印机或电脑，具备标准曲线记忆、测量数据记忆、上下限设定、统计处理等16种功能。有许多选项，例如打印机、测量架和外部输出电缆。
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模型 |
LE-373 |
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测量方法 |
电磁感应式 |
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测量对象 |
磁性金属上的非磁性薄膜 |
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测量范围 |
0-2500 微米或 99.0 密耳 |
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测量精度 |
50μm以下：±1μm、 |
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50μm以上、1000μm以下：±2%、 |
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1000μm以上：±3% |
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解析度 |
100μm以下：0.1μm，100μm以上：1μm |
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符合标准 |
JIS K5600-1-7, JIS H0401, JIS H8401, |
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JIS H8501, JIS H8641 / ISO 1460, |
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ISO 2064, ISO 2178, ISO 2808, |
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ISO 19840 / BS 3900-C5 / ASTM B 499, |
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ASTM D 7091-5, ASTM 376 |
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数据存储器 |
约39,000点 |
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校准曲线记忆 |
100 |
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探测 |
一点接触恒压型（LEP-J） |
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显示方式 |
数字（带背光的LCD，最小显示位数0.1 μm） |
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外部输出 |
个人电脑（USB 或 RS-232C） |
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电源供应 |
电池 1.5V (AA 碱性) x 4 |
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能量消耗 |
80mW（背光不亮时） |
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电池寿命 |
100小时（背光关闭时连续使用） |
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工作温度限制 |
0-40℃ |
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尺寸/质量 |
75 (W) x 145 (D) x 31 (H) 毫米, 0.34Kg |
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